中国材料大会2024暨第二届世界材料大会
2025-01-21
仪器信息网讯2024年7月9日，由中国材料研究学会主办、欧洲材料研究学会联合主办、广东工业大学协办的中国材料大会2024暨第二届世界材料大会在广州白云国际会议中心盛大开幕。本届大会是在加快推进高水平科技自立自强大背景下举办的新材料领域跨学科、跨领域、跨行业的学术交流大会，是中国新材料界学术水平高、涉及领域广、前沿动态新的品牌大会。近百位院士、2.5万余名材料科技工作者参加了本次会议。
7月10日，大会报告（Ⅱ）和大会报告（Ⅲ）环节，七位杰出的专家学者为现场及通过多渠道观看线上直播的与会者奉献了一系列精彩纷呈的学术报告。现特辑大会报告精华，以飨读者。
Yuzo Shigesato青山学院大学教授日本材料研究学会理事长
报告题目：《Various functional oxide films with high performances deposited by reactive sputtering》
使用合金靶材进行反应溅射以沉积氧化物或氮化物薄膜，是实现工业应用中高沉积速率的一条有效的途径。与氧化物表面相比，金属表面具有更高的溅射产率，同时由于其较高的热导率，能够应用更高的溅射功率密度，这使得该技术对各种应用具有吸引力。然而，反应溅射过程对氧气流量比非常敏感，导致沉积速率在氧气流量方面出现滞后现象。这种行为源于靶材表面的氧化状态，随着氧气流量的增加，沉积速率会显著下降。为了应对这一挑战并确保获得既具有高沉积速率又具有可重复性的高质量透明导电氧化物（TCO）薄膜，精确控制溅射条件至关重要。
为此，已采用结合放电阻抗或等离子体发射强度的专门设计的反馈系统，并结合中频脉冲技术。这些系统能够精确控制沉积过程，确保获得具有所需性能的高质量薄膜。报告中深入探讨了通过使用Zn-Al、In-Sn、Ti-Nb或Sn-Sb(Ta)合金靶材进行反应溅射，从而实现各种TCO（包括掺铝氧化锌（AZO）、掺锡氧化铟（ITO）、掺铌二氧化钛（NTO）或掺锑（钽）氧化锡（ATO、TTO）薄膜）的超高速率沉积的详细过程。此外，还介绍了二氧化钛（TiO2）或三氧化钨（WO3）光催化剂和各种光学薄膜的沉积，展示反应溅射在多种应用中的多功能性和潜力。同时，介绍了使用Y-Mg、Ni-Mg和Gd薄膜通过加氢/脱氢反应制备的热开关器件的最新研究。
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